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第1696章 都有点不好意思了呢（第1页）

14号，情人节。

介于昨天晚上曲某人与佐佐木元聊的非常投机，还达成了许多默契。原本参观nec丸之内总部大楼的计划，变成了参观nec中央研究所。

从名字就能看出来，“中央研究所”是nec旗下一系列研究机构中规模最大的，也是成立最早的。

49年创立，从最初的材料、器件，逐渐拓展到计算机系统和软件。

75年从东京迁至神奈川县川崎市，又成立了“未来技术研究室”，专注于十到三十年后的颠覆性技术。

（小日子的“县”相当于咱们的省，“市”相当于地级市或县级市。从面积上看，“县”相当于市，“市”

76年开发出小日子首款量产的商用采用75微米工艺，集成2500个晶体管的4位微处理器μ-4。

77年开发出“沟槽电容器”结构，使存储密度提升4倍，成功研制64kdra。

78年开发电子束光刻技术，将集成电路线宽从5微米缩减至1微米，突破了当时的技术极限。

曲卓这次参观的重点，就是电子束光刻技术。

不但“摸”到了nec自己的独立项目，还“摸”到了尼康和ib通过专利共享，合作开发的ncr-eb1a原型机?。

图片上是ib和尼康合作，在1980年推出的el-3电子束光刻

（ncr-eb1a的图片没找着，应该跟同源同代的el-3差不太多）

这玩意支持?1000万像素并行投射，将线宽推进到了01-05微米（100-500纳米）。

而时下老美gca最先进的dsw4800步进式光刻机，最小线宽是05到1微米。

当然了，电子束光刻机虽然精度更高，但和光学光刻机是没法比的。

ncr-eb1a一小时只能处理几平方厘米的晶圆，dsw4800每小时可以处理接近两百片晶圆。

普通的光学掩模成本也就大几千到一万多美元，电子束用的氮化硅掩模成本在十五到二十万美元。

所以，电子束光刻机只能用来做研发、小批量生产和制作精确模板，大规模制造还是得指望光学光刻机。

可但是，这玩意虽然对量产来说没有任何意义，但对曲某人有意义呀！

直接把他“购买力”从386推进到了奔腾四，加上倍频技术，将主频从级直接拉到了g级……

小日鬼儿之所以大方的让曲卓看他们“宝贝”，当然不是为了炫耀，或者证明什么。

电子束光刻机有一项核心需求——处理?tb级版图数据?。

而处理?tb级版图数据?，需要依赖高性能计算系统进行图形分割和拼接。

之前港岛的技术发布会上，long系列计算机在显示增强卡的加持下，表现出了强大的图像处理能力，正是电子束光刻机所需要的。

佐佐木元当时就在现场，凭直觉判断，如果有long计算机，ncr-eb1a的处理速度至少提高十倍。

从每小时几平方厘米，提高到四到五片晶圆。

虽然依旧远远不及光学光刻机，但起码小批量生产速度提上去了。完全可以胜任一些精密设备的高制程特种芯片加工。

发布会过后，nec的代表第一时间联系东大，表达了采购的意愿。

得到的答案是：这只是技术展示会。想要购买，需要等到与戴英as的合作工厂投产之后。

后面小日子又通过其他渠道联系东大高层，再次表达了购买意愿。得到的答案依旧是，需要等到与戴英的合作工厂开工。

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